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美國(guó)AST橢偏儀 SE200BA/500BA系列

價(jià)  格:詢價(jià)

產(chǎn)  地:更新時(shí)間:2021-01-18 16:45

品  牌:型  號(hào):SE200BA/500BA系列

狀  態(tài):正常點(diǎn)擊量:2460

400-006-7520
聯(lián)系我時(shí),請(qǐng)說(shuō)明是在上海非利加實(shí)業(yè)有限公司上看到的,謝謝!

上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

聯(lián) 系 人: 上海非利加實(shí)業(yè)有限公司

電   話: 400-006-7520

傳   真: 400-006-7520

配送方式: 上海自提或三方快遞

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:  

SE橢偏儀系列薄膜分析產(chǎn)品來(lái)自美***AST公司,其可以實(shí)現(xiàn)薄膜厚度***測(cè)量,同時(shí)可以實(shí)現(xiàn)12層的薄膜厚度測(cè)試,同樣對(duì)于材料NK參數(shù)也可以實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確測(cè)量,為人們針對(duì)薄膜進(jìn)行分析提供了極大便利。

   

特點(diǎn): 
· 易于安裝
· 基于視窗結(jié)構(gòu)的軟件,很容易操作
· 的光學(xué)設(shè)計(jì),以確保能發(fā)揮出*佳的系統(tǒng)性能
· 能夠自動(dòng)的以0.01度的分辨率改變?nèi)肷浣嵌?br/>· 高功率的DUV-VIS光源,能夠應(yīng)用在很寬的波段內(nèi)
· 基于陣列設(shè)計(jì)的探測(cè)器系統(tǒng),以確保快速測(cè)量
· *多可測(cè)量12層薄膜的厚度及折射率
· 能夠用于實(shí)時(shí)或在線的監(jiān)控光譜、厚度及折射率等參數(shù)
· 系統(tǒng)配備大量的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)及數(shù)據(jù)庫(kù)
· 對(duì)于每個(gè)被測(cè)薄膜樣品,用戶可以利用的TFProbe3.0軟件功能選擇使用NK數(shù)據(jù)庫(kù)、也可以進(jìn)行色散或者復(fù)合模型(EMA)測(cè)量分析;
· 三種不同水平的用戶控制模式:專***模式、系統(tǒng)服務(wù)模式及初***用戶模式
· 靈活的專***模式可用于各種獨(dú)特的設(shè)置和光學(xué)模型測(cè)試
· 健全的***鍵按鈕(Turn-key)對(duì)于快速和日常的測(cè)量提供了很好的解決方案
· 用戶可根據(jù)自己的喜好及操作習(xí)慣來(lái)配置參數(shù)的測(cè)量
· 系統(tǒng)有著全自動(dòng)的計(jì)算功能及初始化功能
· 無(wú)需外部的光學(xué)器件,系統(tǒng)從樣品測(cè)量信號(hào)中,直接就可以對(duì)樣品進(jìn)行精確的校準(zhǔn)
· 可精密的調(diào)節(jié)高度及傾斜度
· 能夠應(yīng)用于測(cè)量不同厚度、不同類型的基片
· 各種方案及附件可用于諸如平面成像、測(cè)量波長(zhǎng)擴(kuò)展、焦斑測(cè)量等各種特殊的需求
· 2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數(shù)據(jù)管理界面。

系統(tǒng)配置: 
· 型號(hào):SE200AM-M300;SE500BA系列

· 探測(cè)器:PMT
· 光源:高功率的DUV-Vis光源
· 指示角度變化:根據(jù)設(shè)定的程序,自動(dòng)變化
· 平臺(tái):ρ-θ配置的自動(dòng)成像
· 軟件:TFProbe 3.2版本的軟件
· 計(jì)算機(jī):Inter雙核處理器、19”寬屏LCD顯示器
· 電源:110–240V AC/50-60Hz,6A
· 保修:***年的整機(jī)及零備件保修

規(guī)格: 
· 波長(zhǎng)范圍:250nm到850 nm
· 波長(zhǎng)分辨率: 0.1nm
· 光斑尺寸:1mm至5mm可變
· 入射角范圍:10到90度
· 入射角變化分辨率:5度 間隔
· 樣品尺寸:直徑為300mm
· 基板尺寸:*多可至20毫米厚
· 測(cè)量厚度范圍*:0nm?10μm
· 測(cè)量時(shí)間:約1秒/位置點(diǎn) 
· 精確度*:優(yōu)于0.25%
· 重復(fù)性誤差*:小于1 ?

選項(xiàng):                  
· 用于反射的光度測(cè)量或透射測(cè)量
· 用于測(cè)量小區(qū)域的微小光斑
· 用于改變?nèi)肷浣嵌鹊淖詣?dòng)量角器
· X-Y成像平臺(tái)(X-Y模式,取代ρ-θ模式)
· 加熱/致冷平臺(tái)
· 樣品垂直安裝角度計(jì)
· 波長(zhǎng)可擴(kuò)展到遠(yuǎn)DUV或IR范圍
· 聯(lián)合MSP的數(shù)字成像功能,可用于對(duì)樣品的圖像進(jìn)行測(cè)量

應(yīng)用:                  
· 半導(dǎo)體制造(PR,Oxide, Nitride..) 
· 液晶顯示(ITO,PR,Cell gap... ..) 
· 醫(yī)學(xué),生物薄膜及材料領(lǐng)域等
· 油墨,礦物學(xué),顏料,調(diào)色劑等
· 醫(yī)藥,中間設(shè)備
· 光學(xué)涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... .. 
· 半導(dǎo)體化合物
· 在MEMS/MOEMS系統(tǒng)上的功能性薄膜
· 非晶體,納米材料和結(jié)晶硅
· 太陽(yáng)能電池工業(yè)

應(yīng)用實(shí)例:   

客戶遍布全球主要科研大學(xué)及主要半導(dǎo)體廠商:


NIST

ISMI

NASA

JPL

Marshall Space Center

Air Force

MIT

Columbia University

UC Berkeley

Georgia Tech

University of Virginia

USTC,China

...

Bell Laboratories

HP

GE

Lockheed Martin

Corning

Applied Materials

First Solar

Dow Chemical

Samsung

Texas Instruments

National Semiconductor

...



詳情關(guān)注:北京燕京電子有限公司






產(chǎn)品參數(shù)


產(chǎn)品介紹




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